中国科学院力学研究所;中国航天空气动力技术研究院;

在Ma=5的超声速风洞中,进行了尖锥模型的粒子图像测速技术(PIV)实验,采用纳米示踪粒子及专门的粒子播发器,获得了3个攻角(0°,5°,10°)尖锥模型表面的粒子图像,经过高精度粒子图像数据处理,得到相应3个攻角的模型表面速度场分布,并观察到斜激波和膨胀波的波系结构。实验表明,示踪粒子能够均匀撒布于超声速流场中并具有良好的跟随性,满足了超声速流场PⅣ测试要求,实验结果反映了超声速条件下模型表面的流场特性

电子束辐照对InP（100）表面硫钝化的增强作用

采用含有过量硫的(NH_4)_2S_x对InP(100)表面进行化学钝化和辉光放电电子束辐照处理,液氮下光致发光强度比未辐射的光致发光强度提高了1.5倍,比未钝化的提高了5倍.利用X射线光电子谱研究了电子辐照对InP表面硫钝化的影响.结果表明,硫钝化InP表面经电子束辐照可以促使S与InP更好的化合

立方相 Al_xGa_(1-x)N/GaAs(100)的MOVCD外延生长

利用MOCVD生长技术在GaAs(100)衬底上生长了高质量的立方相AlGaN薄膜。通过光致发光（PL）、扫描电镜（SEM）分析了不同NH_3流量、不同生长温度对AlGaN外延层的结晶质量和表面形貌的影响。发现相对高的NH_3流量和相对高的生长温度可以提高AlGaN外延层的结晶质量

利用快速热退火在n-GaAs上形成Ge/pdge欧姆接触

利用Ge/Pd/GaAs结构和快速热退火工艺在n-GaAS上形成低阻的欧姆接触.研究了比接触电阻率与退火的温度和时间关系,400～500℃之间退火的欧姆接触的比接触电阻率为～10~(-6)Ω·cm~2.接触层的表面光滑、界面平整.利用俄歇电子谱(AES)和二次离子质谱(SLMS)揭示和讨论了比接触电阻率的欧姆接触形成的机理

Pt/n-GaN肖特基接触的退火行为

在金属有机物气相外延（MOVPE）方法生长的非故意掺杂的n-GaN上用Pt制成了肖特基接触，并在250-650℃范围内对该接触进行退火。通过实验发现，Pt与非故意掺杂n-GaN外延薄膜可以形成较好的肖特基接触，而适当的退火温度可以有效地改善Pt/n-GaN肖特基接触的性质。在该实验条件下，400℃温度下退火后的Pt/n-GaN肖特基接触，势垒高度最大，理想因子最小。在600℃以上温度退火后，该接触特性受到破坏，SEM显示在该温度下，Pt已经在GaN表面凝聚成球，表面形成孔洞

氮化镓肖特基结紫外探测器的异常特性测量

测量了CaN肖特基结紫外探测器在有、无光照下的I-V异常特性。分别用362nm和368nm光束对有源区进行横向扫描，得到了光照不同部位时探测器在无偏压、2V反向偏压下的电流。紫外光照到肖特基结压焊电极附近及透明电极边沿附近区域时，探测器在反向偏压下有较大增益，空间响应均匀性变差，在禁带内有两个增益响应峰波长——364nm和368nm。探测器在810nm光照射下，反向偏压下的光响应增益、持续光电导存在光淬灭现象。探测器紫外光照完后，俘获中心及表面陷阱所俘获的部分电荷在高反向偏置电压下老化可以通过隧穿或发射效应释放出来，经过高反向偏置电压老化完后的探测器在同一低反向偏置电压下暗电流比老化前的要小。测量结果为GaN器件的研制提供了参考数据